전체 34,271건
HS코드 | |
결정일 | 2017-01-31 |
기관 | 관세평가분류원 |
문서번호 | 품목분류2과-1663 |
품명 | Machines and apparatus for the manufacture of wafers; CLEANING MACHINE; 300MM EPI CLEANER; JAPAN |
물품 | 물품개요 웨이퍼 제조공정에서 웨이퍼 표면을 Polishing한 후 붙어있는 오염 입자들을 습식세정법으로 제거하는 장비로서, 오염물을 제거하는 Chemical Bath 4개, 화학물질을 제거하는 Rinse Bath 8개, 세정이 완료된 웨이퍼를 건조시키는 Dry Bath 4개 등으로 구성됨 구성요소 Chemical Bath : 웨이퍼 표면의 오염물(Particle, 유기물, Metal 등)을 제거하는 장비로 Sonic, Circulation, Filter 등으로 구성 Rinse Bath : Chemical Bath에서 묻어온 화학물질을 정제수(DIW)를 지속적으로 공급하여 제거하는 장비 Dry Bath : Hot DIW에 의한 Lift Dry 방식(모세관 현상 이용) 및 IR Dry 방식(적외선 이용)으로 건조 기타 : Loader, 이송 Robot, Unloader 등 |
분류 근거 |
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출처
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