전체 34,271건
HS코드 | |
결정일 | 2001-05-10 |
기관 | 관세청 |
문서번호 | 평가분류47281-408 |
품명 | Measuring or Checking instrument, appliance and machines not specified or include elsewhere in this Chapter ; Wafer Analysis Instrument ; RS75/TC(OmniMap RS75) |
물품 | 웨이퍼표면에 이온을 주입하여 열처리 후 웨이퍼 표면에 주입된 이온의 농도를 분석하여 Mapping으로 표시하거나 그래프로 나타내어 웨이퍼의 안정화를 분석하는 장치로 4개의 Prober를 이용하여 면저항값(Rs)을 측정, 측정된 면저항값을 기준으로 유전율을 이용하여 웨이퍼 표면의 면저항에 따른 이온농도를 산출 및 분석하여 일정한 보정계수로 환산하여 마이크론단위로 표시하는 장비 장비의 구성현황 ① Handler : 웨이퍼를 PC를 통해 작동이 용이하도록 설계 ② Tester : IMP장비에서 이온주입 후에 웨이퍼의 실리콘 격자가 이온주입때 High Voltage 때문에 열처리를 거친 후에 웨이퍼가 핸들러에서 스테이지로 로딩되면 프로버가 웨이퍼에 접촉되어 웨이퍼의 단위면적당 이온주입농도를 측정 |
분류 근거 |
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이 코드의 다른 결정례3
출처
결정례는 해당 신청 물품에 대한 결정입니다. 다른 물품의 분류를 보장하지 않는 참고 자료입니다.